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数字制造科学

数字制造科学

  • 主管单位:   中华人民共和国教育部
  • 主办单位:  武汉理工大学
  • 分类:   自动化技术
  • 下单时间:   1个月内
  • 国际刊号:  1672-3236
  • 国内刊号:  42-1693/TP
  • 期刊定价:    ¥120
  • 起订时间:   2024年12月
  • 创刊:   2003
  • 周期:   季刊
  • 出版社:   数字制造科学
  • 发行:   湖北
  • 语言:   中文
  • 主编:   郭顺生
  • 库存:   569
  • 邮编:   430070
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      期刊详情

      • 期刊介绍
        • 主管单位:中华人民共和国教育部
        • 主办单位:武汉理工大学
        • 出版地方:湖北
        • 快捷分类:科技
        • 国际刊号:1672-3236
        • 国内刊号:42-1693/TP
        • 邮发代号:
        • 创刊时间:2003
        • 发行周期:季刊
        • 期刊开本:16开
        • 下单时间:1个月内
        • 业务类型:杂志服务

      数字制造科学简介

      • 《数字制造科学》(CN:42-1693/TP)是一本有较高学术价值的大型季刊,自创刊以来,选题新奇而不失报道广度,服务大众而不失理论高度。颇受业界和广大读者的关注和好评。

        《数字制造科学》采用科学评论体例,出版数字制作科学领域科学方向的评述论文;采用正式论文体例,出版数字制造科学领域具有代表性的科学研究理论和工程成果;采用汉、英、法、德、日、俄等6种文字,进行论文摘要,实现跨国界科学传播。

      杂志文章特色

      • 1.《数字制造科学》内容:立意新颖,观点明确,内容充实,论证严密,语言精炼,能及时反映所研究领域的新成果。尤为欢迎有新观点、新方法、新视角的稿件。

        2.《数字制造科学》来稿注明作者真实姓名、工作单位、职务、职称、通讯地址、电话号码及Email等。

        3.《数字制造科学》请在来稿末尾附上作者详细通讯地址。包括:收件人所在地的省、市、区、街道名称、邮政编码、联系电话、电子信箱、代收人的姓名以及本人要求等,必准确。论文有图表的,图片和表格的清晰,能和文字对应。

        4.《数字制造科学》来稿文责自负。请附单位推荐信,推荐信应注明对稿件的审评意见、无一稿两投、署名无争议及对技术保密等审核内容的证明信

      杂志分析报告

      年度被引次数报告(学术成果产出及被引变化趋势)

      年度期刊评价报告(本刊综合数据对比及走势)

      • 注:年度总文献量的统计不包含资讯类文献,如致谢、稿约、启事、勘误等

      • 注:比率 = 当年基金资助文献量 / 当年发文量 * 100%

      • 注:当年发文量的统计不包含资讯类文献,如致谢、稿约、启事、勘误等

      数字制造科学栏目设置

      期刊文章摘录

      摘要:报告中国国家重点基础研究发展计划(973计划)项目《高性能电子产品设计制造精微化、数字化新原理和新方法》中有关于原子级光滑表面制造的基础研究中所取得的进展和阶段性成果。包括CMP的若干关键技术的突破,化学机械抛光的机理研究,CMP中纳米粒子行为的计算机模拟和实验研究。开展原子级光滑表面制造和化学机械抛光开展的实验研究,理论分析和计算机模拟。内容包括固体磨粒材料的选择,磨粒的表面修饰和分散,磨粒大小和含量的优化;抛光液中氧化剂,络合剂,缓释剂和其它化学助剂的作用机理;抛光压力速度等T艺参数的优化,抛光中纳米粒子的行为以及纳米团簇一硅基体碰撞过程的分子动力学模拟,纳米粒子与基体的冲击实验,抛光过程和二相流动中纳米粒子运动的荧光跟踪观察等。研究结果表明,抛光液中的固体磨粒对抛光中的材料去除和高质量表面的形成具有重要的贡献。减小颗粒的粒径一般有利于改善表面质量,但关键是保证粒子的大小均匀,因为大颗粒容易造成表面划痕或缺陷。通过对固体磨粒的含量和大小尺寸的优化,可以获得高质量的抛光表面、同时保证较高的抛光去除速率。除了固体磨粒外.抛光液中还包含氧化剂,络合剂,缓释剂,以及多种化学助剂。氧化剂与抛光工件表面发生化学反应形成软质钝化层,以便通过抛光垫和磨粒的机械作用加以去除,形成“氧化一去除一氧化”的材料去除循环。但钝化层的形成阻碍了氧化反应过程的继续发展,络合剂的作用是与氧化反应产物形成流动性较好的络合物,从而增加了钝化层的化学活性,使氧化反应和材料去除得以继续发展。高品质的抛光液的研制取决与对抛光液中各种化学成分的精心调配和长期的潜心试验。我们在计算机磁头,磁盘基片�

      作者:潘国顺,雒建斌,路新春,郭丹,段芳莉,徐进,陈入领,张伟,胡元中

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